A lánggal történő szilikátosításhoz használt bázisállomás egy precíziós eszköz, amelyet nanométeres méretű amorf szilikát rétegek leválasztására terveztek, jelentősen javítva a nyomatok és bevonatok tapadását a kihívást jelentő felületeken. Az ultravékony szilikát alapozó kialakításával az egység növeli a felületi energiát fém, üveg, műanyag és kerámia alkatrészeken a fényesség vagy a mérettűrések megváltoztatása nélkül, így a nyomatok megbízhatóbban kötődnek, és csökkennek a nyomtatási hibák. A kompakt fáklya egyenletes kezelést biztosít 65 mm szélességben, következetes lefedettséget biztosítva mind a foltkezelések, mind a gyors áthaladásos feldolgozás során sík vagy enyhén kontúrozott felületeken. Az 1500 mm-es nyomótömlő rugalmas hozzáférést biztosít asztali vagy mobil használathoz, míg a mellékelt univerzális FO-UV-FS-BASE utántöltő patron (üveghez és fémhez) lehetővé teszi az alkatrészek azonnali kezelésének megkezdését. A telepítés és a kezelés egyszerű: a lánggal történő eljárás másodpercek alatt szabályozott szilikát réteget hoz létre, csökkentve az előkezelési időt a nedves kémiai módszerekkel összehasonlítva, és kiküszöbölve a szárítási lépéseket. Az eredmény erősebb, tartósabb tapadás, amely csökkenti az utólagos megmunkálást, javítja a hozamot, és nagyobb áteresztőképességet támogat mind a prototípus-, mind a gyártási környezetben. Mivel a lerakódott réteg amorf és nanometrikus, megőrzi a kényes hordozók megjelenését és funkcióját, miközben bizonyított felületaktiválást biztosít. Műhelyek és gyártók számára, akik gyors és megbízható módszert keresnek a különféle anyagok nyomtatásra vagy bevonatolásra való előkészítésére, ez az alapállomás praktikus, használatra kész megoldást kínál. Szállítási terjedelem: 65 mm-es égőfej szélességű égőfej, 1500 mm-es nyomótömlő, 1 db univerzális (üveghez és fémhez) FO-UV-FS-BASE utántöltő patron.